教員紹介
細井 卓治 准教授 (Associate Professor Takuji HOSOI)
1976年大阪府生まれ。1999年大阪大学工学部卒業、2001年大阪大学大学院工学研究科博士前期課程修了、2004年同博士後期課程単位取得退学。2005年博士（工学）学位取得（大阪大学）。広島大学ナノデバイス・システム研究センター研究員（2004～2007年）、大阪大学大学院工学研究科・助教（2007~2021年）を経て、2021年関西学院大学工学部に着任。主な研究領域は、半導体デバイス・プロセス技術。未来社会に求められる高機能かつ高性能な環境調和型デバイスの創出に取り組んでいる。
研究室ホームページ
半導体工学
従来にない革新的性能・機能をもつ半導体デバイスの創出に向けた研究に取り組んでいます。当研究室では、様々な材料やプロセス技術を駆使してデバイスを試作し、その構造解析や電気特性評価を通じて、固体中や界面での原子や電荷の挙動を解き明かし、それらを設計制御して機能発現させることを目指します。
担当科目一覧
- 電気電子応用入門（学部1年前期）
- 応用数学基礎（学部1年後期）
- 基礎電気電子実験（学部1年秋期）
- 先進エネルギーナノ工学詳論（学部4年前期）
KEYWORD
半導体, シリコンカーバイド（SiC）, ゲルマニウム-スズ（GeSn）, MOSトランジスタ, 界面物性
研究テーマ
研究の背景
私たちの生きる社会は常に変化を続けており、1980年代から始まった第三次産業革命（デジタル革命）は既に第四次産業革命に移行しつつあり、AIの進化に代表されるように、デジタル世界と物理的世界、生物と機械とが融合する社会が到来すると言われています。この社会変革の発端となったのが半導体技術であり、1980年代にはパソコン、1990年代には携帯電話、2000年代にはスマートフォンというように情報端末の進化を支え、産業のコメと言われてきました。近年では情報セキュリティの観点からさらにその重要性は高まり、国際戦略物資となっています。一方で、これまで半世紀にわたって半導体の主役を務めてきたシリコンは限界を迎えており、新たな半導体材料が注目を集めており、様々なデバイスが世界中で研究されています。
教育目標
AIの普及は人間の仕事を大きく変えると言われています。そのような社会で活躍するために不可欠な想像力と創造力を備え、しなやかで折れない軸を持った人材の育成を目指します。
共同研究先一覧
大阪大学、産業技術総合研究所など