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2021年07月05日

大谷昇教授が第15回(2021年度) 応用物理学会フェロー表彰を受賞

受賞

第15回(2021年度) 応用物理学会フェロー表彰

受賞題目

SiCバルク単結晶成長と結晶欠陥の先駆的研究

「応用物理学会フェロー表彰制度」は、応用物理学会における継続的な活動を通じて、学術・研究における先駆的な業績、産業技術の開発・育成における重要な業績、教育・公益活動を通した人材育成や教育における業績などにより、応用物理学の発展に貢献した会員をその対象とし、特に貢献が顕著であると認められた会員を表彰し、その受賞者に対してフェローの称号を贈呈するものです。

 

公益社団法人 応用物理学会ホームページ

https://www.jsap.or.jp/

第15回(2021年度) 応用物理学会フェロー表彰者

https://www.jsap.or.jp/jsap-fellow/recipients15

大谷昇研究室

https://www.kg-nanotech.jp/ohtani/

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